Gaz electronic

• Semiconductor de gaz SF6 hexafluorură de sulf

  Hexafluorura de sulf (SF6) este un gaz incolor în-nociv și ne-inflamabil la temperatura atmosferică. Este stabil chimic, cu o izolare bună. geometrie, constând din șase atomi de fluor atașați la un

  Mai mult
• Gaz cu hexafluorură de sulf 99,999% 5N De vânzare

  SF6 este prescurtarea pentru hexafluorura de sulf, la temperaturile mediului, hexafluorura de sulf este un gaz incolor, inodor, ne-toxic, cu stabilitate chimică ridicată și inerție. De asemenea, este

  Mai mult
• Gaz special SF6 Hexafluorura de sulf

  Hexafluorura de sulf (SF6) este un gaz cu efect de seră anorganic, incolor, inodor, ne-inflamabil, extrem de puternic, care este un izolator electric excelent. SF6 are o geometrie octaedrică,

  Mai mult
• Gaz cu hexafluorură de sulf de înaltă puritate de vânzare

  Hexafluorura de sulf, adesea abreviată ca SF6, are similarități cu dioxidul de carbon (CO2) în ceea ce privește proprietățile sale de gaze cu efect de seră. SF6 este un gaz sintetic, inodor, folosit

  Mai mult
• Gaz C3F8 pentru industria semiconductoarelor

  În industria semiconductoarelor: Amestecul de gaz octafluoropropan C3F8 și oxigen este utilizat ca material de gravare cu plasmă, care va reacționa selectiv cu matricea metalică a plachetelor de

  Mai mult
• C3F8 de înaltă puritate pentru chirurgia ochilor

  Octafluoropropanul (C3F8, cunoscut și sub numele de perfluorpropan, R218) este un compus perfluorurat cu o bună stabilitate. Este un gaz incolor în condiții standard și are o solubilitate foarte

  Mai mult
• Hexafluorura de sulf gaz semiconductor SF6

  Hexafluorura de sulf SF6 este unul dintre cele mai frecvent utilizate gaze fluorurate în gravarea uscată a semiconductorilor. Se caracterizează printr-o selectivitate ridicată și o rată puternică de

  Mai mult
• Gaz de gravare uscată Difluormetan (R32)|Puritate ridicat...

  Difluormetan Cunoscut și ca HFC-32/R32, formulă moleculară: CH2F2, ca gaz anizotrop de gravare pentru Si3N4, are o selectivitate relativ scăzută pentru SiO2 și Si. Pe lângă faptul că este agentul de

  Mai mult
• R32 Difluormetan (CH₂F₂) ca gaz de gravare uscată pentru ...

  R32 Difluormetan Cunoscut și ca HFC-32, formulă moleculară: CH2F2, ca gaz de gravare anizotrop pentru Si3N4, are o selectivitate relativ scăzută pentru SiO2 și Si. Pe lângă faptul că este agentul de

  Mai mult
• 99,999% C318 Octafluorociclobutan pentru industria semico...

  Perfluorociclobutanul C318 cu concentrație ridicată de 99,999% este un gaz electronic care poate fi utilizat în-gravarea și curățarea circuitelor integrate la scară largă în industria

  Mai mult
• Gaz octafluorociclobutan C4F8

  Octafluorociclobutanul este un compus organic important care are diverse utilizări industriale datorită proprietăților sale unice.. Puritate: 99,9% ~ 99,999%. Alte denumiri: perfluorociclobutan.

  Mai mult
• Gaz octafluorociclobutan C4F8 de înaltă puritate 99,999%.

  Gaz octafluorociclobutan C4F8, puritate: 99,999%. Este adesea folosit în procesul de semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition), C4F8 este folosit ca înlocuitor pentru CF4 sau

  Mai mult