HFE 7200 Cas 163702 06 5 pentru curățarea semiconductorilor Tel:+086-592-5803997
Ca solvenți fluorurati de -generație următoare, HFE 7200 stabilește punctul de referință pentru curățarea de precizie în medii în care fiabilitatea absolută nu este-negociabilă. Proiectat cu o puritate ultra-înaltă, compatibilitate excepțională cu materialele și evaporare rapidă-fără reziduuri, acesta abordează cele mai solicitante provocări de curățare din producția de semiconductori, optică, electronică și instrumente medicale.
Curățarea semiconductoarelor: de la îndepărtarea reziduurilor de gravare la scară nano-de pe substraturile plachete până la curățarea delicată a lentilelor optice sensibile și a endoscoapelor medicale, HFE 7200 oferă performanțe consistente și repetabile, fără a compromite integritatea substratului. Natura sa ne-inflamabilă și toxicitatea scăzută îl fac o alegere sigură atât pentru sistemele automate de degresare cu vapori, cât și pentru procesele manuale de curățare, în timp ce profilul său de mediu se aliniază cu directivele globale de durabilitate.
Acolo unde solvenții convenționali nu au probleme, HFE 7200 excelează - asigurându-se că componentele critice îndeplinesc cele mai înalte standarde de curățenie, funcționalitate și longevitate.
Principalele avantaje ale HFE 7200 Tel:+086-592-5803997
Aplicații cheie ale HFE 7200 Tel:+086-592-5803997
1. Curățarea umedă a echipamentelor de gravare a semiconductoarelor; Curățarea cristalelor lichide și a componentelor hard diskului
HFE 7200 este utilizat pe scară largă în procesele avansate de curățare umedă pentru fabricarea semiconductoarelor, în special în îndepărtarea reziduurilor post-gravare din plachete și componente ale camerei. Puritatea sa excepțională, tensiunea superficială scăzută și evaporarea rapidă asigură o curățare minuțioasă fără a lăsa contaminanți ionici sau sub formă de particule. În industriile de afișare și stocare a datelor, este la fel de eficient pentru curățarea panourilor delicate de afișaj cu cristale lichide (LCD) și a componentelor hard diskului (HDD), păstrând claritatea optică și precizia mecanică, eliminând în același timp uleiurile, particulele și reziduurile organice.
2. Curățarea echipamentului laser și curățarea lentilelor optice
Datorită proprietăților sale non-corozive și fără reziduuri-, HFE 7200 este ideal pentru întreținerea sistemelor optice-de înaltă performanță. Îndepărtează în siguranță praful, amprentele digitale și straturile de pe optica laser, lentile, oglinzi și senzori, fără a deteriora straturile anti-reflexive sau specializate. Natura sa cu uscare rapidă-previne urmele, asigurând transmisia optimă a luminii și acuratețea sistemului în aplicații critice, cum ar fi litografia, tăierea cu laser, imagistica medicală și instrumentele științifice.
3. Curățarea componentelor electronice de precizie
HFE 7200 servește ca un solvent extrem de fiabil pentru degresare și îndepărtarea fluxului din ansambluri electronice sensibile, inclusiv plăci de circuite imprimate (PCB-uri), conectori, relee și sisteme microelectromecanice (MEMS). Toxicitatea sa scăzută și compatibilitatea superioară a materialelor permit utilizarea în siguranță pe materiale plastice, elastomeri și metale, prevenind umflarea, fisurarea sau degradarea electrică, asigurând în același timp o fiabilitate dielectrică ridicată.
4. Aviație și domenii medicale (curățarea lentilelor medicale, materiale speciale sensibile)
În aviație, HFE 7200 este utilizat pentru curățarea avionicii, sistemelor de navigație și materialelor compozite sensibile, fără a le afecta proprietățile structurale sau electrice. În fabricarea și întreținerea dispozitivelor medicale, se aplică pentru curățarea lentilelor de endoscop, a instrumentelor chirurgicale, a senzorilor de diagnostic și a altor componente biocompatibile, unde sterilitatea, ne-reactivitatea și zero reziduuri sunt primordiale.
5. Aplicații de înfrumusețare și cosmetice (machiaj/demachiant, măști faciale)
În formulările cosmetice, HFE 7200 acționează ca un purtător volatil sau solvent în produse precum machiajul de lungă durată-, demachiante rezistente la apă și măști cu folie. Caracteristicile sale blânde, non-iritante și evaporarea rapidă ajută la furnizarea uniformă a ingredientelor active fără a lăsa reziduuri grase, îmbunătățind experiența utilizatorului și stabilitatea produsului.
6. Agenți de curățare și clătire pentru degresarea cu vapori
HFE 7200 este un solvent preferat în sistemele de degresare cu vapori cu buclă închisă-pentru îndepărtarea uleiurilor, grăsimilor și ceară din piesele metalice, ceramice și polimerice. Punctul său de fierbere scăzut și stabilitatea ridicată permit condensarea și recuperarea eficientă, reducând la minimum consumul de solvenți și impactul asupra mediului, obținând în același timp curățenia industrială-.
7. Purtător de lubrifiant
Ca fluid purtător în lubrifianți de specialitate și compuși anti-gripante, HFE 7200 facilitează aplicarea uniformă a particulelor sau aditivilor lubrifianți la ansambluri mecanice complexe. Se evaporă rapid după aplicare, lăsând în urmă o peliculă uniformă, subțire de lubrifiere, fără a atrage praful sau a interfera cu toleranțele.
8. Solvent specializat, mediu de dispersie, mediu de reacție și solvent de extracție
HFE 7200 este utilizat în cercetare și dezvoltare și procese chimice de-înaltă valoare ca mediu inert pentru dispersarea nanomaterialelor, desfășurarea reacțiilor chimice controlate sau extragerea compușilor sensibili. Stabilitatea sa chimică, non-polaritatea și reactivitatea scăzută îl fac potrivit pentru manipularea materialelor avansate, a produselor farmaceutice și a substanțelor chimice fine.
9. Înlocuire pentru CFC, HCFC, HFC și PFC
Ca alternativă responsabilă din punct de vedere ecologic la solvenții cu-epuizarea stratului de ozon și cu potențial-de încălzire-înalt{-global-de încălzire-, HFE 7200 oferă performanțe comparabile sau superioare, cu potențial de epuizare a ozonului (ODP) zero și un GWP semnificativ mai scăzut. Susține conformitatea cu reglementările internaționale de mediu, cum ar fi Protocoalele de la Montreal și Kyoto.
10. Fluid de transfer de căldură
HFE 7200 este utilizat în sistemele de răcire mono-sau bi-fazate pentru electronice, sisteme laser și echipamente de laborator. Stabilitatea termică, non-inflamabilitatea și proprietățile dielectrice permit o disipare eficientă și sigură a căldurii în aplicații de răcire cu contact direct sau indirect, inclusiv răcirea prin imersie pentru calcularea de înaltă-performanță și electronica de putere.
hFE 7200 Fișă tehnică Tel:+086-592-5803997
|
Aspect și proprietăți |
Lichid transparent incolor |
Miros |
Inodor |
|
Punct de fierbere la 1 atm |
156-160 de grade |
Punct de îngheț |
-84,9 grade |
|
densitatea lichidului (25 grade) |
1,810 g·mL-1 |
Punct de aprindere |
Nu |
|
pierdere dielectrică (10 MHz) |
0.00418 |
rezistivitate de volum |
Mai mare sau egal cu 1,579×1011 Ω·mm |
|
indicele de refracție |
1.308 |
coeficient de dilatare a volumului (20-80 grade) |
5.420×10-3 |
|
vâscozitate cinematică (25 grade) |
3,05 mm2·s-1 |
Căldura specifică |
1.151 J·g-1·K-1 |
|
coeficient de conductivitate termică (25 grade) |
0.0656W∙m-1∙K-1 |
tensiune superficială |
17,51 mN·m-1 |
|
rezistență dielectrică (2,5 mm) |
>50,4 kV |
constanta dielectrica (1 MHz) |
4.75 |
|
ODP |
0 |
GWP |
180 |
Turul fabricii Tel:+086-592-5803997



Profilul Companiei Tel:+086-592-5803997

Tag-uri populare: hfe 7200 cas 163702 06 5 pentru curatarea semiconductorilor, furnizori, producatori, fabrica, oferta, pret, cumparare












